专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]研磨装置-CN201811254519.7有效
  • 杨俊铖;王先彬 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2018-10-26 - 2021-05-11 - B24B37/00
  • 本申请公开了一种研磨装置,包括:研磨平台;研磨垫,位于研磨平台上;研磨液输出结构,位于研磨垫上方,用于将研磨液输出置研磨垫上;以及研磨头,位于研磨垫上方,用于固定待研磨产品,并使待研磨产品与研磨垫接触,研磨装置还包括清除装置,与研磨液输出结构相连,位于研磨垫上方,用于提供移除使用后的研磨液的气流。本发明解决了由于使用后的研磨液稀释了初始研磨液的浓度造成的研磨速率降低的问题,达到了防止被使用后的研磨液与初始的研磨液混合的技术效果。
  • 研磨装置
  • [发明专利]研磨装置-CN98107043.4无效
  • 上野久史 - 日本电气株式会社
  • 1998-02-17 - 2002-02-06 - B24B37/04
  • 本发明公开了一种研磨装置,它能够稳定诸如用于制造半导体装置的薄片等的研磨物体周边部分的研磨速度。该研磨装置通过将研磨物体与旋转研磨台上的砂布相对设置并在研磨块上施加负载以及供给研磨液来进行研磨。还设有一个环绕给定厚度的弹性缓冲板的环状卡环,所述缓冲板位于研磨物体固定块和研磨体之间,使得研磨物体和研磨板之间的接触压力均匀,从而使得研磨物体的研磨速度恒定。$#!
  • 研磨装置
  • [实用新型]研磨装置-CN201320224010.4有效
  • 小滨达也;小畠严贵;野村季和;木村宪雄;川岛清隆 - 株式会社荏原制作所
  • 2013-04-27 - 2013-11-27 - B24B37/10
  • 本实用新型提供的研磨装置,能够均匀且高效地对研磨对象物的被研磨面供给研磨液。研磨装置具备:具有研磨面(52)的研磨工作台(22);保持半导体晶片(W)并将半导体晶片(W)按压于研磨面(52)的顶环(24)。另外,研磨装置还具备:对研磨面(52)供给研磨液(Q)的研磨液供给口(57);以及移动机构,该移动机构使研磨液供给口(57)移动,以使研磨液(Q)因半导体晶片(W)与研磨面(52)之间的相对移动而均匀地遍布半导体晶片
  • 研磨装置
  • [实用新型]研磨装置-CN201320555435.3有效
  • 张勇;程乐;潘文欢;李启沅;刘小盼 - 深圳华大基因研究院
  • 2013-09-06 - 2014-05-07 - B02C19/00
  • 本实用新型公开了一种研磨装置研磨装置用于插置于一离心管中以对离心管中的样品实施研磨研磨装置包括研磨棒和把手,研磨棒和把手连接,其中:研磨棒包括柄部、中部和研磨头,中部的一端与柄部连接,中部的另一端与研磨头连接,研磨头的形状和大小与离心管相匹配;把手与研磨棒的柄部相匹配连接。通过上述方式,本实用新型的研磨操作简单,能够在研磨样品时减少样品的丢失,有效提高研磨效率。
  • 研磨装置
  • [实用新型]研磨装置-CN200420084351.7无效
  • 叶智斌;陈文政;庄青锦 - 碧悠国际光电股份有限公司
  • 2004-08-06 - 2005-09-14 - B24B9/08
  • 一种研磨装置,它包含有一挟持装置、一旋转座及一研磨部件;挟持装置吸附挟持同心圆玻璃基板;研磨部件设置于一旋转座上,表面设置有多数个研磨颗粒。研磨部件并具有一水平圆形截面,使多数个研磨颗粒沿圆周分布,研磨部件随着旋转座旋转而转动,挟持装置配合研磨部件相对移动,以使研磨部件的多数个圆周分布的研磨颗粒接触,并研磨同心圆玻璃基板的圆边。
  • 研磨装置
  • [发明专利]研磨装置-CN90103952.7无效
  • 陈吉祥 - 陈吉祥
  • 1990-05-26 - 1994-06-29 - B02C2/00
  • 本发明提供一种研磨装置,乃于机架上设置有动力装置及磨盘装置等,其中该磨盘装置主要以两纵向斜面组合之内,外研磨筒所组成,藉该两研磨筒之以相互环抱贴触研磨面之设置而增加其研磨面积,且外研磨筒并以重力方式压触设置,使当该内研磨筒转动进行研磨时,将具有良好之研磨功效,深具有产业上之利用价值。
  • 研磨装置
  • [发明专利]研磨装置-CN201910280462.6有效
  • 井上雄贵;铃木孝雅 - 株式会社迪思科
  • 2019-04-09 - 2023-03-14 - B24B37/00
  • 提供研磨装置,一边抑制浆料提供量,一边使浆料遍布研磨垫的整个研磨面,从而实现抑制了浆料消耗的经济的研磨加工。研磨装置包含:晶片保持工作台;研磨单元,其将研磨垫安装于主轴而使该研磨垫进行旋转,该研磨垫在对晶片进行研磨研磨面的中心具有开口;对研磨垫的研磨面提供浆料的单元;以及将贯通研磨垫和主轴的旋转轴心的贯通路的上端封闭而对贯通路内提供空气的单元,该研磨装置对通过使保持工作台所保持的晶片上表面与研磨垫的研磨面接触而将研磨垫的开口封住的晶片上表面喷射空气提供单元所提供的空气,通过在研磨面方向上从开口朝向外周的放射状的空气的流动而使浆料遍布整个研磨面,从而对晶片进行研磨
  • 研磨装置
  • [实用新型]研磨装置-CN201120465096.0有效
  • 陈枫 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2011-11-21 - 2012-08-01 - B24B37/10
  • 本实用新型的研磨装置包括晶圆吸附器、研磨垫吸附器、条形研磨垫和研磨液供应器;所述晶圆吸附器吸附待研磨晶圆,并使所述待研磨晶圆的待研磨面朝上;所述研磨垫吸附器吸附所述条形研磨垫,并将所述条形研磨垫压在所述待研磨晶圆的待研磨面上;所述研磨液供应器向所述待研磨晶圆的待研磨面喷射研磨液。本实用新型的研磨装置成本低、研磨效果均一,特别适用于大尺寸晶圆。
  • 研磨装置
  • [实用新型]研磨装置-CN201822063628.2有效
  • 赵胜飞 - 深圳市双盈电子科技有限公司
  • 2018-12-10 - 2020-03-13 - A47J42/26
  • 本实用新型公开了一种研磨装置,所述研磨装置包括主体和罩子,主体包括底座、设置于底座的插头、驱动装置研磨件,所述研磨件设置于所述底座的顶部,所述罩子罩设于所述底座以罩盖所述研磨件,所述驱动装置设置于所述底座内,所述插头与所述驱动装置电连接,所述插头用于与电子设备的电源插孔插接以使电子设备提供驱动电压给所述驱动装置,所述驱动装置用于驱动所述研磨件旋转进行研磨。本实用新型缩小了研磨机的体积,能够研磨少分量的香料。且研磨机的可由移动终端直接供电,无需安装另外的电源装置,方便使用,同时便于携带。
  • 研磨装置
  • [实用新型]研磨装置-CN201320023006.1有效
  • 前田将克 - 苏州住友电木有限公司
  • 2013-01-16 - 2013-07-10 - B24B37/10
  • 一种研磨装置,具有:研磨部件(9),具有研磨研磨物(4)的平坦研磨面(10);保持部(2),所述保持部(2)具有朝所述研磨面(10)且向下开口的收容部(6),所述收容部(6)中,在保持所述被研磨物(4)的同时通过自重将所述被研磨物(4)按压到所述研磨面(10);以及移动机构(3),通过使所述保持部(2)和所述研磨部件(9)在所述研磨面(10)的面方向上相对移动使所述研磨部件(9)研磨所述被研磨物(4根据本实用新型的研磨装置,能够抑制被研磨物的研磨量的误差。
  • 研磨装置

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